Tiedosto:Spinner.jpg

Wikipediasta
Siirry navigaatioon Siirry hakuun

Alkuperäinen tiedosto(641 × 823 kuvapistettä, 63 KiB, MIME-tyyppi: image/jpeg)

Kuvaus
English: A spinner is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The image shows a wafer of 6" (125 mm) diameter that has been mounted on the vacuum chuck and is ready for spinning. The user dispenses a drop of photoresist in the center of the wafer and the centrifugal force spreads the fluid into an even film, eliminating excess photoresist at the edge of the wafer in the process.
Note that the light in the room really is yellow.
Lähde Photo taken at HP Labs by Alison Chaiken.
Tekijä Alison Chaiken
Käyttöoikeus
(Tämän tiedoston uudelleenkäyttö)
Minä, tämän teoksen tekijänoikeuksien haltija, julkaisen täten tämän teoksen seuraavilla lisensseillä:
GNU head Voit kopioida, levittää ja/tai muuttaa tätä asiakirjaa GNU Free Documentation License -lisenssin version 1.2 tai minkä tahansa Free Software Foundationin julkaiseman myöhemmän version ehtojen alaisena; ei koske muuttumattomia kohtia, etukannen tekstejä eikä takakannen tekstejä. Kopio tästä lisenssistä on saatavilla osiossa GNU Free Documentation License.
w:fi:Creative Commons
nimeäminen jaa samoin
Tämä tiedosto on lisensoitu Creative Commons Nimeä-JaaSamoin 3.0 Ei sovitettu -lisenssillä.
Voit:
  • jakaa – kopioida, levittää ja esittää teosta
  • remiksata – valmistaa muutettuja teoksia
Seuraavilla ehdoilla:
  • nimeäminen – Sinun on mainittava lähde asianmukaisesti, tarjottava linkki lisenssiin sekä merkittävä, mikäli olet tehnyt muutoksia. Voit tehdä yllä olevan millä tahansa kohtuullisella tavalla, mutta et siten, että annat ymmärtää lisenssinantajan suosittelevan sinua tai teoksen käyttöäsi.
  • jaa samoin – Jos muutat tai perustat tähän työhön, voit jakaa tuloksena syntyvää työtä vain tällä tai tämän kaltaisella lisenssillä.
Lisensointimerkintä lisätiin tähän tiedostoon osana GFDL-lisensointipäivitystä.
w:fi:Creative Commons
nimeäminen jaa samoin
Tämä tiedosto on lisensoitu Creative Commons Nimeä-JaaSamoin 2.5 Yleinen, 2.0 Yleinen ja 1.0 Yleinen -lisensseillä.
Voit:
  • jakaa – kopioida, levittää ja esittää teosta
  • remiksata – valmistaa muutettuja teoksia
Seuraavilla ehdoilla:
  • nimeäminen – Sinun on mainittava lähde asianmukaisesti, tarjottava linkki lisenssiin sekä merkittävä, mikäli olet tehnyt muutoksia. Voit tehdä yllä olevan millä tahansa kohtuullisella tavalla, mutta et siten, että annat ymmärtää lisenssinantajan suosittelevan sinua tai teoksen käyttöäsi.
  • jaa samoin – Jos muutat tai perustat tähän työhön, voit jakaa tuloksena syntyvää työtä vain tällä tai tämän kaltaisella lisenssillä.
Voit valita haluamasi lisenssin.

Kuvatekstit

Lisää yhden rivin pituinen kuvaus tästä tiedostosta

Kohteet, joita tässä tiedostossa esitetään

esittää

0.03787878787878787878 sekunti

8,2 millimetri

ISO speed englanti

100

image/jpeg

Tiedoston historia

Päiväystä napsauttamalla näet, millainen tiedosto oli kyseisellä hetkellä.

PäiväysPienoiskuvaKokoKäyttäjäKommentti
nykyinen29. marraskuuta 2014 kello 19.19Pienoiskuva 29. marraskuuta 2014 kello 19.19 tallennetusta versiosta641 × 823 (63 KiB)SelakantColour correction and contrast enhancement.
3. helmikuuta 2006 kello 05.23Pienoiskuva 3. helmikuuta 2006 kello 05.23 tallennetusta versiosta641 × 823 (62 KiB)ChaikenA '''spinner''' is used to apply a thin even coating of photoresist to a silicon wafer so that the pattern on a photomask can be transferred and a circuit can be fabricated. The i

Seuraava sivu käyttää tätä tiedostoa:

Tiedoston järjestelmänlaajuinen käyttö

Seuraavat muut wikit käyttävät tätä tiedostoa:

Metatieto