Tiedosto:CMOS fabrication process.svg

Wikipediasta
Siirry navigaatioon Siirry hakuun

Alkuperäinen tiedosto ‎(SVG-tiedosto; oletustarkkuus 512 × 2 176 kuvapistettä; tiedostokoko 7 KiB)

Yhteenveto

Kuvaus
English: Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram can be scale.
Päiväys
Lähde Oma teos
Tekijä
Tämän tiedoston tiedoista puuttuu tieto tekijästä.
Muut versiot
  • englanti .svg
    englanti .svg
  • venäjä .svg
    venäjä .svg
SVG kehittely
InfoField
 
Tämän SVG-tiedoston lähdekoodi on validoitu.
 
Tämä vektorigrafiikkatiedosto luotiin käyttäen apuna ohjelmaa unknown tool
 
 This icon uses embedded text that can be easily translated using a text editor.

Lisenssi

Minä, tämän teoksen tekijänoikeuksien haltija, julkaisen täten tämän teoksen seuraavilla lisensseillä:
w:fi:Creative Commons
nimeäminen jaa samoin
Tämä tiedosto on lisensoitu Creative Commons Nimeä-JaaSamoin 3.0 Ei sovitettu -lisenssillä.
Voit:
  • jakaa – kopioida, levittää ja esittää teosta
  • remiksata – valmistaa muutettuja teoksia
Seuraavilla ehdoilla:
  • nimeäminen – Sinun on mainittava lähde asianmukaisesti, tarjottava linkki lisenssiin sekä merkittävä, mikäli olet tehnyt muutoksia. Voit tehdä yllä olevan millä tahansa kohtuullisella tavalla, mutta et siten, että annat ymmärtää lisenssinantajan suosittelevan sinua tai teoksen käyttöäsi.
  • jaa samoin – Jos muutat tai perustat tähän työhön, voit jakaa tuloksena syntyvää työtä vain tällä tai tämän kaltaisella lisenssillä.
GNU head Voit kopioida, levittää ja/tai muuttaa tätä asiakirjaa GNU Free Documentation License -lisenssin version 1.2 tai minkä tahansa Free Software Foundationin julkaiseman myöhemmän version ehtojen alaisena; ei koske muuttumattomia kohtia, etukannen tekstejä eikä takakannen tekstejä. Kopio tästä lisenssistä on saatavilla osiossa GNU Free Documentation License.
Voit valita haluamasi lisenssin.

Kuvatekstit

Lisää yhden rivin pituinen kuvaus tästä tiedostosta

Kohteet, joita tässä tiedostossa esitetään

esittää

luomisajankohta

16. elokuu 2014

MIME-tyyppi

image/svg+xml

tarkistussumma

d519d7e6f9b783385926d1dfe46ad6c2f3b773d6

määrittelytapa: SHA-1 englanti

tiedostokoko

7 225 tavu

korkeus

2 176 pikseli

leveys

512 pikseli

Tiedoston historia

Päiväystä napsauttamalla näet, millainen tiedosto oli kyseisellä hetkellä.

PäiväysPienoiskuvaKokoKäyttäjäKommentti
nykyinen9. lokakuuta 2011 kello 19.29Pienoiskuva 9. lokakuuta 2011 kello 19.29 tallennetusta versiosta512 × 2 176 (7 KiB)Cmglee{{Information |Description ={{en|1=Simplified process of fabrication of a CMOS inverter on p-type substrate in semiconductor microfabrication. Note: Gate, source and drain contacts are not normally in the same plane in real devices, and the diagram is

Seuraava sivu käyttää tätä tiedostoa:

Tiedoston järjestelmänlaajuinen käyttö

Seuraavat muut wikit käyttävät tätä tiedostoa:

Metatieto

Tämä tiedosto sisältää esimerkiksi kuvanlukijan, digikameran tai kuvankäsittelyohjelman lisäämiä lisätietoja. Kaikki tiedot eivät enää välttämättä vastaa todellisuutta, jos kuvaa on muokattu sen alkuperäisen luonnin jälkeen.

Noudettu kohteesta ”https://fi.wikipedia.org/wiki/Tiedosto:CMOS_fabrication_process.svg”