Volframiheksafluoridi

Kohteesta Wikipedia
Siirry navigaatioon Siirry hakuun
Volframiheksafluoridi
Wolframhexafluorid.svg
Tungsten-hexafluoride-3D-balls.png
Tunnisteet
CAS-numero 7783-82-6
Ominaisuudet
Molekyylikaava WF6
Moolimassa 297,84
Ulkomuoto Väritön kaasu
Sulamispiste 2 °C[1]
Kiehumispiste 17,2 °C[1]
Liukoisuus veteen Reagoi veden kanssa

Volframiheksafluoridi eli volframi(VI)fluoridi (WF6) on volframin ja fluorin muodostama epäorgaaninen yhdiste. Yhdistettä voidaan käyttää volframin lähteenä elektroniikkateollisuuden sovellutuksissa.

Ominaisuudet[muokkaa | muokkaa wikitekstiä]

Volframiheksafluoridi on siirtymämetalliyhdisteille poikkeuksellisesti väritöntä kaasua huoneenlämpötilassa. Aine on yksi tiheimmistä tunnetuista kaasuista ja ilmaan verrattuna sen tiheys on noin 13-kertainen. Nestemäisenä volframiheksafluoridi on kellertävää ja kiinteänä valkoista. Aine on hyvin reaktiivista ja reagoi esimerkiksi veden kanssa hydrolysoituen volframihapoksi. Volframiheksafluoridi liukenee eräisiin orgaanisiin liuottimiin esimerkiksi dietyylieetteriin, dioksaaniin, sykloheksaaniin tai bentseeniin ja nämä liuokset ovat väriltään punaisia tai violetteja. Alkalimetallifluoridien kanssa volframiheksafluoridi reagoi muodostaen kompleksisia oktafluorovolframaatti(VI)suoloja esimerkiksi K2[WF8]. Volframiheksafluoridi ärsyttää voimakkaasti ihoa ja hengitysteitä ja voi aiheuttaa syövytysvammoja joutuessaan kosketuksiin ihon kanssa.[1][2][3]

Valmistus ja käyttö[muokkaa | muokkaa wikitekstiä]

Tyypillisin tapa valmistaa volframiheksafluoridia on volframin ja fluorin tai vetyfluoridin välinen reaktio 350–400 °C:n lämpötilassa. Ainetta voidaan valmistaa myös volframiheksakloridista fluoraavien yhdisteiden esimerkiksi vetyfluoridin, arseenitrifluoridin tai antimonipentafluoridin välisellä reaktiolla. Käytettäessä hyvin puhdasta fluoria ja volframia saadaan hyvin puhdasta volframiheksafluoridia.[1][2][3]

W + 3 F2 → WF6

Volframiheksafluoridia käytetään suuria määriä elektroniikkateollisuudessa volframi- ja volframisilisidiohutkalvojen valmistamiseen. Ohutkalvot valmistetaan kemiallisella kaasufaasipinnoituksella piisubstraatille. Reaktiossa pelkistimenä käytetään vetyä, silaania, dikloorisilaania tai germaania. Kemiallisella kaasufaasipinnoituksella volframiheksafluoridia voidaan myös käyttää suojaavan volframikarbidikerroksen muodostamiseen teräksen pinnalle ja yhdessä reniumheksafluoridin kanssa volframin ja reniumin hybridiohutkalvojen valmistamiseen.[1][2][3][4]

Lähteet[muokkaa | muokkaa wikitekstiä]

  1. a b c d e Philip B. Henderson & Andrew J. Woytek: Fluorine Compounds, Inorganic, Tungsten, Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, John Wiley & Sons, New York, 2000. Viitattu 20.9.2017.
  2. a b c Erik Lassner, Wolf-Dieter Schubert, Eberhard Lüderitz & Hans Uwe Wolf: Tungsten, Tungsten Alloys, and Tungsten Compounds, Ullmann's Encyclopedia of Industrial Chemistry, John Wiley & Sons, New York, 2000. Viitattu 20.9.2017.
  3. a b c Erik Lassner,Wolf-Dieter Schubert: Tungsten, s. 168. Springer, 1999. ISBN 978-0-306-45053-2. Kirja Googlen teoshaussa (viitattu 20.9.2017). (englanniksi)
  4. Srinivasan Sivaram: Chemical Vapor Deposition, s. 169. Springer, 1995. ISBN 978-1-4757-4753-9. Kirja Googlen teoshaussa (viitattu 20.9.2017). (englanniksi)