Tiedosto:Cudeposition.gif

Wikipediasta
Siirry navigaatioon Siirry hakuun

Cudeposition.gif(320 × 380 kuvapistettä, 669 KiB, MIME-tyyppi: image/gif, toistuva, 187 kehystä, 19 s)

Yhteenveto

Kuvaus

Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom with

a kinetic energy of 1 eV on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger (10x10x10 unit cells) 3D simulation cell. Simulation made with Sabochick-Lam embedded-atom method potential, Berendsen temperature control used only at the outer boundaries to scale temperature down to 0 K. Initial temperature 0 K (cell prerelaxed to allow for surface relaxation inwards). This kind of processes occur in reality during physical vapour deposition.
Päiväys
Lähde Oma teos
Tekijä Knordlun

Lisenssi

Public domain Tämän teoksen tekijä, I, Knordlun, on julkaissut sen public domainiin. Tämä on voimassa maailmanlaajuisesti.
Joissain maissa laki ei mahdollista tätä. Mikäli näin on:
I, Knordlun myöntää kaikille oikeuden käyttää tätä teosta mihin tahansa tarkoitukseen ilman minkäänlaisia ehtoja, ellei laki vaadi ehtojen asettamista.

Kuvatekstit

Lisää yhden rivin pituinen kuvaus tästä tiedostosta

Kohteet, joita tässä tiedostossa esitetään

esittää

30. heinäkuu 2007

Tiedoston historia

Päiväystä napsauttamalla näet, millainen tiedosto oli kyseisellä hetkellä.

PäiväysPienoiskuvaKokoKäyttäjäKommentti
nykyinen30. heinäkuuta 2007 kello 15.39Pienoiskuva 30. heinäkuuta 2007 kello 15.39 tallennetusta versiosta320 × 380 (669 KiB)Knordlun{{Information |Description=Molecular dynamics computer simulation of the deposition of a single copper atom on a copper surface. Technical details: cross section of two atom layers in the middle of a larger 3D simulation cell. Simulation made with Sabochi

Seuraava sivu käyttää tätä tiedostoa:

Tiedoston järjestelmänlaajuinen käyttö

Seuraavat muut wikit käyttävät tätä tiedostoa: